低溫恒溫槽應(yīng)用范圍： 對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等
特點(diǎn)：采用全封閉壓縮機(jī)制冷，具有降溫速度快、噪音低、性能、質(zhì)量等特點(diǎn)。

在使用低溫恒溫槽是，一般情況下不要自行修改各個(gè)參數(shù)，除測量值修正可以修改； 低溫恒溫槽使用電源50Hz 220V,電源的功率一定要大于或者等于一起的總功率，電源bi須要有良好的"接地"裝置。

底部帶有磁力攪拌，可帶動槽內(nèi)磁力攪拌，使溫度充分均勻，

底部設(shè)有加熱系統(tǒng)，利用加熱平衡制冷，避免了壓縮機(jī)的頻繁啟動，增加了壓縮機(jī)的壽命
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